光学高精密膜厚测量仪

公司自主研发的光学高精密膜厚测量仪，利用光源干涉原理对膜层进行非接触式测量。可测量透明与半透明涂布膜层。测量厚度可达纳米级，最高测量精度可达0.5%。测量仪具有超高精度、操作简单及使用场景广泛等特点。