自動コーティング3点セット装置
結晶シリコンタンデムペロブスカイト太陽電池向け自動コーティング3点セットは、182mm×182mmシリコンウェーハへの機能層コーティング専用に設計されています。
本システムは、コーター(供液システム含む)、環境カバー(クリーン集塵、有機溶剤処理装置含む)、シリコンウェーハ搬送ロボット機構、VCDフラッシュ抽出装置、積層炉アニール装置、および電気制御ユニットなどで構成されています。
本システムは、カセットからの自動昇降・全自動ウェーハピックアップにより、コーティング→VCD真空溶剤抽出 → 積層炉アニールを完了し、最終的にカセットへ取り出すまでの3つの工程をすべて自動で行います。
技術仕様
| コーター | |
| 全体外部寸法(mm) | 1880*1550*2200 |
| 基材サイズ(mm) | 182*182 |
| ダイ自動調整精度(μm | 2 |
| 速度制御範囲(mm/s) | 1-200 |
| コーティング乾燥膜厚(nm) | 10-800 |
| コーティング溶液固形分濃度(%) | 1-70 |
| コーティング溶液粘度(cps) | 1-100 |
| 生産タクトタイム(pcs/h) | ≥60 |
| VCDフラッシュ抽出装置 | |
| 排気方式 | 底部排気 |
| 出入材方式 | 手動/自動切替可能 |
| 基板仕様 | 182mm*182mmシリコンウェーハ、厚さ≥100μm |
| 排気時間 | ATM-10Pa≤I0s |
| 到達真空度 | ≤1Pa |
| リーク率 | ≤1*10-9Pa*m³ /s |
| ベント時間 | 10Pa-ATM:5-10s秒 調整可能 |
| タクトタイム | 60s |
| MFC N2流量 | 0-2SLM 調整可能 |
| 積層炉アニール装置 | |
| 製品サイズ | ≥200*200am |
| プロセスチャンバー最高温度 | 200℃ |
| プロセス使用温度範囲 | RT~200℃ |
| 基板内温度分布 | ≤士3%℃ |
| 基板間温度分布 | ≤士3%℃ |
| 温度精度 | ≤士1℃ |
| チャンバー昇温速度 | RKT-150℃≤8min |
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